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[특허 요약] 양자점 전사 인쇄 방법이 제공된다. 상기 양자점 전사 인쇄 방법은, 도우너 기판에 양자점층을 형성하는 단계, 상기 양자점층을 스탬프를 이용하여 픽업하는 단계, 상기 스탬프를 이용하여 상기 양자점층을 음각 기판에 접촉시키는 단계, 및 상기 스탬프를 상기 음각 기판으로부터 분리시키는 단계를 포함한다. 상기 양자점 전사 인쇄 방법에 의해 초소형의 양자점 패턴이 높은 전사율로 전사될 수 있다. 이에 의해, 성능이 우수한 고집적 양자점 전자 장치와 고해상도의 초박막 웨어러블 양자점 발광 장치가 구현될 수 있다.
| 특허 상태 | 등록 |
| 출원인 | 서울대학교산학협력단, 기초과학연구원 |
| 발명자 | 김대형, 현택환, 최문기, 양지웅, 강광훈 |
| 출원번호 | 1020140170841 |
| 출원일 | 2014.12.02 |
| 등록번호 | 101606290B |
| 등록일 | 2016.03.24 |
| 중요 키워드 | quantum dotsubstratestamp |
양자점 전사 인쇄 방법이 제공된다. 상기 양자점 전사 인쇄 방법은, 도우너 기판에 양자점층을 형성하는 단계, 상기 양자점층을 스탬프를 이용하여 픽업하는 단계, 상기 스탬프를 이용하여 상기 양자점층을 음각 기판에 접촉시키는 단계, 및 상기 스탬프를 상기 음각 기판으로부터 분리시키는 단계를 포함한다. 상기 양자점 전사 인쇄 방법에 의해 초소형의 양자점 패턴이 높은 전사율로 전사될 수 있다. 이에 의해, 성능이 우수한 고집적 양자점 전자 장치와 고해상도의 초박막 웨어러블 양자점 발광 장치가 구현될 수 있다.








| 출원번호 | 출원일 |
| 2018134095 | 2018.07.17 |
| 종류코드 | |
| A | |
| 외부 링크 | |
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| 출원번호 | 출원일 |
| 201580064194 | 2015.07.22 |
| 종류코드 | |
| A | |
| 외부 링크 | |
| 출원번호 | 출원일 |
| 2017527766 | 2015.07.22 |
| 종류코드 | |
| B2 | |
| 외부 링크 | |
| 출원번호 | 출원일 |
| 1020140169056 | 2014.11.28 |
| 종류코드 | |
| A | |
| 외부 링크 | |

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피부 손상 없는 재사용 전자 패치 생체 신호 모니터링 시스템 개발

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투명 그래핀 내시경으로 암 진단 및 치료 통합 시스템 개발

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