기술이전 상세 정보를 불러오는 중입니다...
기존 이미지 센서는 단결정 실리콘의 성능 한계와 유무기 페로브스카이트의 식각 용매 불안정성으로 인한 고해상도 패턴 형성의 어려움을 겪고 있습니다. 본 기술은 이러한 문제 해결을 위해 친수성-소수성 표면의 선택적 젖음성을 활용한 유무기 페로브스카이트 고해상도 패터닝 방법을 개발하였습니다. 기판 위에 전자 전송층을 노출시키는 자기조립층 패턴을 형성하고, 그 위에 유무기 하이브리드 페로브스카이트 용액을 스핀 코팅하여 원하는 고해상도 패턴을 안정적으로 구현합니다. 스핀 코팅 속도, 시간 및 용액 온도 조절을 통해 패턴 수율을 최적화하며, 페로브스카이트의 할로겐 성분 조절로 응답 광파장을 다양화하여 무필터 컬러 가변 광검출 장치도 구현할 수 있습니다. 이 기술로 개발된 광전 소자는 우수한 성능을 갖추고 얇고 가벼우며, 유리, 반도체, 플라스틱 등 다양한 기판에 적용 가능하여 플렉시블 디바이스로도 활용할 수 있습니다. 이는 이미지 센서, 태양 전지, 발광 장치 등 차세대 광전 소자 시장에 새로운 가능성을 제시하며 제조 비용 절감에도 기여할 것으로 기대됩니다.
기술 분야 | 광전소자 제조 기술 |
판매 유형 | 자체 판매 |
판매 상태 | 판매 중 |
기술명 | |
페로브스카이트 패턴을 포함하는 광전 소자 및 그 형성 방법 | |
기관명 | |
서울대학교산학협력단 기초과학연구원 | |
대표 연구자 | 공동연구자 |
김대형 | - |
출원번호 | 등록번호 |
1020160136298 | 1018909960000 |
권리구분 | 출원일 |
특허 | 2016.10.20 |
중요 키워드 | |
신소재개발포토다이오드광전소자유무기하이브리드페로브스카이트정공전송층고해상도패턴플렉시블소자컬러가변광검출장치스핀코팅차세대기술이미지센서나노멤브레인전자전송층전자부품영상기기반도체제조반도체소자광학기기이미징기술센서기술나노구조 |
기술이전 상담신청
연구자 미팅
기술이전 유형결정
계약서 작성 및 검토
계약 및 기술료 입금
보유 기술 로딩 중...
인기 게시물 로딩 중...