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전자부품

고해상도 플렉시블 페로브스카이트 광전 소자 개발

기술분야

광전소자 제조 기술

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  • 특허매각
  • 라이센스
  • 노하우
  • 공동연구

AI요약

기존 이미지 센서는 단결정 실리콘의 성능 한계와 유무기 페로브스카이트의 식각 용매 불안정성으로 인한 고해상도 패턴 형성의 어려움을 겪고 있습니다. 본 기술은 이러한 문제 해결을 위해 친수성-소수성 표면의 선택적 젖음성을 활용한 유무기 페로브스카이트 고해상도 패터닝 방법을 개발하였습니다. 기판 위에 전자 전송층을 노출시키는 자기조립층 패턴을 형성하고, 그 위에 유무기 하이브리드 페로브스카이트 용액을 스핀 코팅하여 원하는 고해상도 패턴을 안정적으로 구현합니다. 스핀 코팅 속도, 시간 및 용액 온도 조절을 통해 패턴 수율을 최적화하며, 페로브스카이트의 할로겐 성분 조절로 응답 광파장을 다양화하여 무필터 컬러 가변 광검출 장치도 구현할 수 있습니다. 이 기술로 개발된 광전 소자는 우수한 성능을 갖추고 얇고 가벼우며, 유리, 반도체, 플라스틱 등 다양한 기판에 적용 가능하여 플렉시블 디바이스로도 활용할 수 있습니다. 이는 이미지 센서, 태양 전지, 발광 장치 등 차세대 광전 소자 시장에 새로운 가능성을 제시하며 제조 비용 절감에도 기여할 것으로 기대됩니다.

기본 정보

기술 분야광전소자 제조 기술
판매 유형자체 판매
판매 상태판매 중

기술 상세 정보

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기술명
페로브스카이트 패턴을 포함하는 광전 소자 및 그 형성 방법
기관명
서울대학교산학협력단 기초과학연구원
대표 연구자공동연구자
김대형-
출원번호등록번호
10201601362981018909960000
권리구분출원일
특허2016.10.20
중요 키워드
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기술완성도 (TRL)

기본원리 파악
기본개념 정립
기능 및 개념 검증
연구실 환경 테스트
유사환경 테스트
파일럿 현장 테스트
상용모델 개발
실제 환경 테스트
사업화 상용운영

기술 소개

매도/매수 절차

기술이전 상담신청

연구자 미팅

기술이전 유형결정

계약서 작성 및 검토

계약 및 기술료 입금

문의처

기초과학연구원

기초과학연구원

담당자기초과학연구원
이메일ipr@ibs.re.kr
문의처042-878-9118

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