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기존 광파 펄스 측정 방식은 비선형 물질 사용으로 특정 파장에 제한되거나, 진폭 및 위상 정보 없이 대략적인 펄스 모양만 제공하는 한계가 있었습니다. 본 기술은 이러한 문제를 해결하고자 이온화를 활용합니다. 기본 펄스와 측정 대상 신호 펄스를 이온화 물질에 집속하여 이온화시킨 후, 두 펄스 간 시간 지연에 따른 이온화 변화량을 정밀하게 측정합니다. 이때 신호 펄스의 전기장 세기는 기본 펄스보다 약하게 조절되며, 이온화율의 미분 함수와 신호 펄스의 상호상관 함수를 분석하여 광파의 진폭과 위상을 정확히 계산합니다. 이 방법은 종래 기술의 파장 제한 없이 광파의 시간에 따라 변화하는 정확한 펄스 모양을 제공하여, 레이저 기술 및 광학 연구 등 다양한 응용 분야에서 정밀한 광파 펄스 분석을 가능하게 합니다.
| 기술 분야 | 광학 계측 |
| 판매 유형 | 자체 판매 |
| 판매 상태 | 판매 중 |
| 기술명 | |
| 이온화를 이용한 광파의 진폭 및 위상 측정 방법 | |
| 기관명 | |
| 기초과학연구원, 광주과학기술원 | |
| 대표 연구자 | 공동연구자 |
| 김경택 | - |
| 출원번호 | 등록번호 |
| 1020150161981 | 1016138820000 |
| 권리구분 | 출원일 |
| 특허 | 2015.11.18 |
| 중요 키워드 | |
정확한 펄스 복원빔 분리 장치초고속 광 측정이온화 광파 측정광파 진폭 위상 측정펄스 분석 기술 | |
| 출원번호 | 출원일 |
| 3005426 | 2016.11.18 |
| 종류코드 | |
| A1 | |
| 외부 링크 | |
기존 광파 측정 기술: 비선형 물질에서 생성되는 조화파를 이용하는 FROG, SPIDER 등의 방법이 널리 사용됩니다. 이 기술들은 비선형 물질의 위상 정합 조건이 맞는 특정 파장에서만 작동하는 한계가 있습니다.
기존 이온화 기반 기술의 한계: 물질의 이온화를 이용한 측정법도 제시되었으나, 이는 대략적인 펄스 폭 정보만 제공할 뿐 진폭과 위상에 대한 정확한 정보를 제공하지 못하는 문제가 있었습니다.
정확한 펄스 모양 측정: 펄스의 진폭과 위상 정보를 모두 측정하여 시간에 따라 변화하는 정확한 펄스 모양을 제공할 수 있는 새로운 측정 방법이 필요합니다.
넓은 파장 범위 적용: 기존 기술의 파장 범위 제한 문제를 극복하여 다양한 광파에 적용할 수 있는 범용적인 측정 기술의 개발이 시급합니다.
본 발명은 강한 '기본 펄스'와 약한 '신호 펄스' 두 개의 빔을 이용합니다.
두 펄스 간의 시간 지연을 조절하면서 이온화 물질에 집속시켜, 시간 지연에 따른 이온화 양의 변화를 측정합니다.
측정된 이온화 변화량은 '기본 펄스의 전기장 세기에 대한 이온화율의 미분 함수'와 '신호 펄스의 상호상관 함수' 형태로 나타납니다. 이 관계를 이용하여 신호 펄스의 진폭과 위상을 정밀하게 계산할 수 있습니다.
펄스 분리 및 세기 조절: 하나의 펄스를 기본 펄스와 신호 펄스로 분리하고, 신호 펄스의 전기장 세기를 기본 펄스보다 약하게 조절합니다.
시간 지연 및 결합: 기본 펄스에 시간 지연을 조절한 후, 신호 펄스와 다시 결합시킵니다.
이온화 및 측정: 결합된 펄스를 이온화 물질(예: 가스, 금속)에 집속하여 생성된 이온의 양을 측정하고, 시간 지연에 따른 이온화 변화량을 산출합니다.
진폭 및 위상 계산: 산출된 이온화 변화량을 분석하여 신호 펄스의 최종적인 진폭과 위상을 계산합니다.

정확한 펄스 정보 제공: 종래의 자기 상관 방법과 달리 펄스의 진폭 및 위상 정보를 모두 제공하여 정확한 펄스 모양을 측정할 수 있습니다.
파장 제약 없음: 비선형 결정을 사용하지 않으므로, 기존 기술들이 가졌던 특정 파장에서만 작동하는 제약 없이 넓은 파장 범위의 광파를 측정할 수 있습니다.
초고속 광학 현상 분석 등 다양한 과학 연구 분야에서의 정밀 측정
제조 및 통신 산업에서 사용되는 펄스 레이저 시스템의 품질 관리 및 특성 평가
새로운 광학 부품 및 신소재 개발 과정에서의 성능 테스트
기초 과학 및 응용 광학 공학 분야에서 광파 특성에 대한 더욱 정밀하고 다재다능한 측정을 가능하게 하여 기술 발전에 기여합니다.
기존 기술의 파장 제약을 극복함으로써, 이전에는 측정이 어려웠던 분야에서 새로운 응용 및 발견을 촉진할 수 있습니다.
국내 광산업의 전반적인 기술 수준은 선진국 대비 50~60% 수준으로 평가되며, 특히 기초 기술은 40% 수준에 머물러 있습니다. 고정밀 광계측기 분야는 5~10년의 기술 격차가 존재하는 것으로 분석됩니다.(출처)
기술 분야 | 선진국 대비 기술 수준 | 기술 격차 |
|---|---|---|
전반적 기술 | 50~60% | N/A |
기초 기술 | 40% | N/A |
광정보통신/광정밀기기 | N/A | 5년 |
광학기기 | N/A | 3년 |
광부품 설계 | N/A | 10년 이상 |
고정밀 광계측기 | N/A | 5~10년 |
푸리에 타이코그래피 현미경(FPM): 활발한 연구개발 단계(TRL 3-6)에 있으며, 일부 기업에서 초기 상용화(TRL 6-7)가 시작되고 있습니다.(출처)
디지털 홀로그래피 계측(DHM): 활발한 R&D 및 최적화 단계(TRL 3-6)를 보이며, 일부 기업은 상용화 초기 단계(TRL 7-8)에 진입했습니다.(출처)
광파 측정 기술이 포함된 자동 광학 계측(AOI) 시장은 전 세계적으로 연평균 20.4%의 높은 성장률을 기록하며, 2026년에는 17억 달러에 이를 것으로 예상됩니다. 특히 아시아-태평양 시장의 성장이 두드러질 전망입니다.(출처)
글로벌 광산업 시장은 1990년 400억 달러에서 2010년 3,830억 달러 규모로 크게 성장했습니다.(출처)
국내 광센서 시장은 1998년 175억 원에서 2000년 393억 원으로 성장했으나, 수입 의존도가 높은 편입니다.(출처)
현재 글로벌 광산업 시장은 미국과 일본이 주도하고 있으며, 독일은 산업용 광학 분야에서 강점을 보이고 있습니다. 국내에서는 '파이버프로'와 같은 기업이 특정 분야에서 독보적인 기술력을 나타내고 있습니다.
글로벌 광산업 경쟁 환경
국가/기업 | 주요 분야 | 특징 |
|---|---|---|
미국 | 광통신, 레이저 등 광정밀 분야 | 일본과 함께 시장의 70% 이상을 점유하며 선도. |
일본 | 민수용 광산업 | 미국과 함께 시장의 70% 이상을 점유. |
독일 | 산업용 광학 | 해당 분야에서 높은 경쟁력 보유. |
대한민국 | 광정보기기, 광통신 | 높은 성장률을 보이나 선진국 대비 기술 격차 존재. |
파이버프로 | 광 계측기기, 포토닉 집적 소자 | 편광 제어 기술 기반 독보적 기술력 보유. |
고품질 전자 부품 수요 증가: 소비재 및 전자 제품의 고도화에 따라 정밀한 광학 계측의 중요성이 커지고 있습니다.
제조업의 자동화 및 효율성 향상: 인더스트리 4.0 및 스마트 제조 확산에 따라 자동화된 광학 계측 시스템의 수요가 증가하고 있습니다.
자동차 전장 산업 성장: 특히 전기차 및 하이브리드 차량으로의 전환이 가속화되면서 자동차 전자 제품 분야에서 3차원 AOI 시스템 등 정밀 측정 솔루션의 수요가 늘고 있습니다.(출처)

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[기술 요약] 기존 광파 펄스 측정 방식은 비선형 물질 사용으로 특정 파장에 제한되거나, 진폭 및 위상 정보 없이 대략적인 펄스 모양만 제공하는 한계가 있었습니다. 본 기술은 이러한 문제를 해결하고자 이온화를 활용합니다. 기본 펄스와 측정 대상 신호 펄스를 이온화 물질에 집속하여 이온화시킨 후, 두 펄스 간 시간 지연에 따른 이온화 변화량을 정밀하게 측정합니다. 이때 신호 펄스의 전기장 세기는 기본 펄스보다 약하게 조절되며, 이온화율의 미분 함수와 신호 펄스의 상호상관 함수를 분석하여 광파의 진폭과 위상을 정확히 계산합니다. 이 방법은 종래 기술의 파장 제한 없이 광파의 시간에 따라 변화하는 정확한 펄스 모양을 제공하여, 레이저 기술 및 광학 연구 등 다양한 응용 분야에서 정밀한 광파 펄스 분석을 가능하게 합니다.
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