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[특허 요약] 단일층 텅스텐 디칼코게나이드 형성방법이 개시된다. 단일층 텅스텐 디칼코게나이드 형성방법은 금박층 및 상기 금박층 하부에 배치되고 상기 금박층의 면적에 대응하는 면적을 가지며 메타텅스텐산암모늄(ammonium metatungstate, AMT)을 포함하는 전구체 용액이 분무되어 있는 세라믹 보트(ceramic boat)를 화학기상증착(CVD) 챔버내에 배치하는 단계; 상기 챔버내에 황화수소(H2S) 가스 또는 셀레늄화수소(H2Se) 가스와 질소(N2) 가스를 공급하는 단계; 및 상기 금박층 및 상기 세라믹 보트를 가열하여 상기 금박층의 하부면 상에 텅스텐 디설파이드(Tungsten disulphide, WS2) 또는 텅스텐 디셀레나이드(tungsten diselenide, WSe2)으로 이루어진 단일층을 형성하는 단계를 포함한다.
| 특허 상태 | 등록 |
| 출원인 | 성균관대학교산학협력단, 기초과학연구원 |
| 발명자 | 이영희, 김기강, 윤석준 |
| 출원번호 | 1020150021485 |
| 출원일 | 2015.02.12 |
| 등록번호 | 20160099258 |
| 등록일 | 2016.08.22 |
| 중요 키워드 | tungstenlayergold foilfoil layerrti |
단일층 텅스텐 디칼코게나이드 형성방법이 개시된다. 단일층 텅스텐 디칼코게나이드 형성방법은 금박층 및 상기 금박층 하부에 배치되고 상기 금박층의 면적에 대응하는 면적을 가지며 메타텅스텐산암모늄(ammonium metatungstate, AMT)을 포함하는 전구체 용액이 분무되어 있는 세라믹 보트(ceramic boat)를 화학기상증착(CVD) 챔버내에 배치하는 단계; 상기 챔버내에 황화수소(H2S) 가스 또는 셀레늄화수소(H2Se) 가스와 질소(N2) 가스를 공급하는 단계; 및 상기 금박층 및 상기 세라믹 보트를 가열하여 상기 금박층의 하부면 상에 텅스텐 디설파이드(Tungsten disulphide, WS2) 또는 텅스텐 디셀레나이드(tungsten diselenide, WSe2)으로 이루어진 단일층을 형성하는 단계를 포함한다.


















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