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| 특허 상태 | 등록 |
| 출원인 | 한국과학기술원, 기초과학연구원 |
| 발명자 | 김상욱, 문형석 |
| 출원번호 | 1020130163898 |
| 출원일 | 2013.12.26 |
| 등록번호 | 20150075685 |
| 등록일 | 2015.07.06 |
| 중요 키워드 | blockpolystyrenepolybutadiene |
본 발명은 자기조립을 이용한 나노 스케일 패터닝 방법에 관한 것으로, 블록공중합체의 자기조립 성질을 이용하여 라멜라형, 실린더형 등 원하는 형태의 나노 패턴을 형성할 수 있으며, 블록공중합체의 단점인 10㎚ 이하의 구조에서 낮은 segment interaction을 극복할 수 있다. 또한 단일 포토리소그래피를 사용함에도 기존의 나노 패턴에 비해 패턴 밀도를 두 배로 증가시킬 수 있으며, 패턴의 피치 및 주기를 조절할 수 있어 반도체 소자 등 회로의 고집적화가 요구되는 전자기기에 크게 활용할 수 있을 것으로 전망된다.
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나노 스케일 패터닝 방법 및 이로부터 제조된 전자기기용 집적소자
[특허 요약] 본 발명은 자기조립을 이용한 나노 스케일 패터닝 방법에 관한 것으로, 블록공중합체의 자기조립 성질을 이용하여 라멜라형, 실린더형 등 원하는 형태의 나노 패턴을 형성할 수 있으며, 블록공중합체의 단점인 10㎚ 이하의 구조에서 낮은 segment interaction을 극복할 수 있다. 또한 단일 포토리소그래피를 사용함에도 기존의 나노 패턴에 비해 패턴 밀도를 두 배로 증가시킬 수 있으며, 패턴의 피치 및 주기를 조절할 수 있어 반도체 소자 등 회로의 고집적화가 요구되는 전자기기에 크게 활용할 수 있을 것으로 전망된다.
