[특허 요약] 본 발명은 자기조립을 이용한 나노 스케일 패터닝 방법에 관한 것으로, 블록공중합체의 자기조립 성질을 이용하여 라멜라형, 실린더형 등 원하는 형태의 나노 패턴을 형성할 수 있으며, 블록공중합체의 단점인 10㎚ 이하의 구조에서 낮은 segment interaction을 극복할 수 있다. 또한 단일 포토리소그래피를 사용함에도 기존의 나노 패턴에 비해 패턴 밀도를 두 배로 증가시킬 수 있으며, 패턴의 피치 및 주기를 조절할 수 있어 반도체 소자 등 회로의 고집적화가 요구되는 전자기기에 크게 활용할 수 있을 것으로 전망된다.

등록번호

20150075685

출원번호

1020130163898

출원인

한국과학기술원, 기초과학연구원

키워드

block, polystyrene, polybutadiene, pattern, polyethylene oxide