[특허 요약] 본 발명은 빛의 조사를 통하여 기판에 분자자기조립을 인가하여 패턴을 형성하는 패턴 제조방법에 관한 것으로서, 매우 높은 열구배를 가질 수 있고, 원하는 부분 및 국소 부분에 배향을 임의로 조절할 수 있으며, 배향조절도를 향상시킬 수 있다. 따라서 사전 포토레지스트 패턴이나, 화학적 패턴 없이, 단순 드레깅을 통해 다양한 회로패턴 구현이 가능하며, 평탄한 기판 외에도 휘어지는 기판과 같은 3차원적인 구조의 기판에서도 구현 가능하고, 특별한 환경의 제약 없이 공정이 가능하다.

등록번호

20160066739

출원번호

1020140171871

출원인

기초과학연구원, 한국과학기술원

키워드

light, block, substrate, polymer, pattern