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| 특허 상태 | 등록 |
| 출원인 | 고려대학교 산학협력단, 기초과학연구원 |
| 발명자 | 양태석, 강성삼, 최원식, 최영운 |
| 출원번호 | 1020230101749 |
| 출원일 | 2023.08.03 |
| 등록번호 | 102749103B |
| 등록일 | 2025.01.03 |
| 중요 키워드 | samplesplitterpolarization |
본 발명의 실시예에 따른 탈축 위상 이미징 장치는 간섭빔을 촬영하는 카메라 모듈과; 평면파를 조사하는 광원부와; 상기 광원부로부터 조사되는 상기 평면파의 각도를 조절하는 각도 조절 미러와; 상기 각도 조절 미러로부터 반사된 상기 평면파 중 S 편광은 반사시키고 P 편광은 투과시켜 샘플빔 및 기준빔으로 분할하는 편광 광 분할기와; 타겟 샘플과 상기 편광 광 분할기 사이에 배치되어, 상기 타겟 샘플로 향하는 상기 샘플빔을 원형편광시키고, 상기 타겟 샘플로부터 반사되어 상기 편광 광 분할기로 향하는 원형편광된 상기 샘플빔을 P 편광시키는 샘플단 파장판과; 상기 기준빔의 광 경로 상에 배치되어 상기 기준빔을 n차 회절시켜 반사하는 회절 격자와; 상기 회절 격자와 상기 편광 광 분할기 사이에 배치되어, 상기 회절 격자로 향하는 상기 기준빔을 원형편광시키고, 상기 회절 격자로부터 반사되어 상기 편광 광 분할기로 향하는 원형평광된 상기 기준빔을 S 편광시키는 기준단 파장판과; 상기 편광 광 분할기와 상기 카메라 모듈 사이에 배치되어, 상기 편광 광 분할기를 투과하는 P 편광된 상기 샘플빔과 상기 편광 광 분할기로부터 반사되는 S 편광된 상기 기준빔이 상호 간섭되어 상기 간섭빔이 형성되게 편광시키는 45도 편광판과; 상기 편광 광 분할기와 상기 45도 편광판 사이에 배치되되, S 편광된 상기 기준빔 중 1차 회절 성분 이외의 회절 성분을 차단하는 0도 편광판을 포함하는 것을 특징으로 한다.
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탈축 위상 이미징 장치
[특허 요약] 본 발명의 실시예에 따른 탈축 위상 이미징 장치는 간섭빔을 촬영하는 카메라 모듈과; 평면파를 조사하는 광원부와; 상기 광원부로부터 조사되는 상기 평면파의 각도를 조절하는 각도 조절 미러와; 상기 각도 조절 미러로부터 반사된 상기 평면파 중 S 편광은 반사시키고 P 편광은 투과시켜 샘플빔 및 기준빔으로 분할하는 편광 광 분할기와; 타겟 샘플과 상기 편광 광 분할기 사이에 배치되어, 상기 타겟 샘플로 향하는 상기 샘플빔을 원형편광시키고, 상기 타겟 샘플로부터 반사되어 상기 편광 광 분할기로 향하는 원형편광된 상기 샘플빔을 P 편광시키는 샘플단 파장판과; 상기 기준빔의 광 경로 상에 배치되어 상기 기준빔을 n차 회절시켜 반사하는 회절 격자와; 상기 회절 격자와 상기 편광 광 분할기 사이에 배치되어, 상기 회절 격자로 향하는 상기 기준빔을 원형편광시키고, 상기 회절 격자로부터 반사되어 상기 편광 광 분할기로 향하는 원형평광된 상기 기준빔을 S 편광시키는 기준단 파장판과; 상기 편광 광 분할기와 상기 카메라 모듈 사이에 배치되어, 상기 편광 광 분할기를 투과하는 P 편광된 상기 샘플빔과 상기 편광 광 분할기로부터 반사되는 S 편광된 상기 기준빔이 상호 간섭되어 상기 간섭빔이 형성되게 편광시키는 45도 편광판과; 상기 편광 광 분할기와 상기 45도 편광판 사이에 배치되되, S 편광된 상기 기준빔 중 1차 회절 성분 이외의 회절 성분을 차단하는 0도 편광판을 포함하는 것을 특징으로 한다.
