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[특허 요약] 본 발명은 반사 행렬 기반 다중 산란 추적 알고리즘을 이용하여 산란 매질 내 대상 이미지를 보정 및 복원하는 이미징 장치 및 방법에 관한 것으로, 본 발명의 일실시예에 따르면 이미징 장치는 산란 매질과 상기 산란 매질 내 다중 산란 성분을 투과하여 대상 물체(object)에 광을 입사하는 광원부, 상기 입사된 광이 상기 대상 물체로부터 상기 다중 산란 성분을 투과 및 반사되어 돌아오는 광을 감지하는 감지부, 상기 돌아오는 광에 기반하여 상기 다중 산란 성분에 기반한 다중 산란 궤적이 반영된 시분해 반사 행렬을 측정하는 반사 행렬 측정부, 다중 산란 추적 알고리즘에 따라 상기 산란 매질로부터 근사된 복수의 위상 평면에 대하여 수치 반복적으로 액세스를 수행하여 입사 투과 행렬 및 반사 투과 행렬을 획득하고, 상기 획득된 입사 투과 행렬 및 상기 획득된 반사 투과 행렬의 역행렬을 상기 측정된 시분해 반사 행렬에 반영하여 물체 반사 행렬을 획득하는 알고리즘 처리부 및 상기 획득된 물체 반사 행렬에 기반하여 상기 다중 산란 궤적에 따른 다중 산란 왜곡이 보정된 이미지를 획득하는 이미지 처리부를 포함할 수 있다.
| 특허 상태 | 등록 |
| 출원인 | 고려대학교 산학협력단, 기초과학연구원 |
| 발명자 | 최원식, 강성삼, 윤석찬 |
| 출원번호 | 1020230124023 |
| 출원일 | 2023.09.18 |
| 등록번호 | 102778548B |
| 등록일 | 2025.03.11 |
| 중요 키워드 | matrixreflectionscatteringphasemultiple scattering |
본 발명은 반사 행렬 기반 다중 산란 추적 알고리즘을 이용하여 산란 매질 내 대상 이미지를 보정 및 복원하는 이미징 장치 및 방법에 관한 것으로, 본 발명의 일실시예에 따르면 이미징 장치는 산란 매질과 상기 산란 매질 내 다중 산란 성분을 투과하여 대상 물체(object)에 광을 입사하는 광원부, 상기 입사된 광이 상기 대상 물체로부터 상기 다중 산란 성분을 투과 및 반사되어 돌아오는 광을 감지하는 감지부, 상기 돌아오는 광에 기반하여 상기 다중 산란 성분에 기반한 다중 산란 궤적이 반영된 시분해 반사 행렬을 측정하는 반사 행렬 측정부, 다중 산란 추적 알고리즘에 따라 상기 산란 매질로부터 근사된 복수의 위상 평면에 대하여 수치 반복적으로 액세스를 수행하여 입사 투과 행렬 및 반사 투과 행렬을 획득하고, 상기 획득된 입사 투과 행렬 및 상기 획득된 반사 투과 행렬의 역행렬을 상기 측정된 시분해 반사 행렬에 반영하여 물체 반사 행렬을 획득하는 알고리즘 처리부 및 상기 획득된 물체 반사 행렬에 기반하여 상기 다중 산란 궤적에 따른 다중 산란 왜곡이 보정된 이미지를 획득하는 이미지 처리부를 포함할 수 있다.
| 출원번호 | 출원일 |
| 202418828107 | 2024.09.09 |
| 종류코드 | |
| A1 | |
| 외부 링크 | |
| 출원번호 | 출원일 |
| 2024023150 | 2024.02.19 |
| 종류코드 | |
| B2 | |
| 외부 링크 | |
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