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[특허 요약] 본 발명은 반사 행렬 데이터에 기반한 켤레 적응광학 알고리즘을 이용하여 타겟 이미지를 보정 및 복원하는 이미징 장치 및 방법에 관한 것으로, 본 발명의 일실시예에 따르면 이미징 장치는 타겟 오브젝트에 조명빔을 입사하는 광원부, 상기 타겟 오브젝트의 샘플 평면의 샘플 켤레면의 샘플 입력 위치로부터 상기 입사된 조명빔이 산란되고, 상기 산란된 조명빔을 상기 샘플 켤레면에 있는 샘플 감지 픽셀로 감지하는 감지부, 상기 샘플 입력 위치를 입력단으로 구성하고, 상기 샘플 감지 픽셀을 출력단으로 구성하는 반사 행렬 데이터를 획득하는 반사 행렬 획득부, 상기 획득된 반사 행렬 데이터에 입력단 변환 행렬 및 출력단 변환 행렬을 적용하여 상기 입력단과 상기 출력단의 수차를 주는 매질 평면의 매질 켤레면에 대해 변환 반사 행렬 데이터를 획득하고, 상기 획득된 변환 반사 행렬 데이터에서 수차 보정된 행렬 데이터와 수차맵의 입력단과 출력단을 분리하는 알고리즘 처리부 및 상기 수차 보정된 행렬 데이터를 역 푸리에 변환하여 상기 샘플 평면에서의 행렬 데이터를 복원하고, 상기 복원된 행렬 데이터에 기반하여 수차 보정된 이미지를 획득하는 이미지 처리부를 포함할 수 있다.
| 특허 상태 | 등록 |
| 출원인 | 고려대학교 산학협력단, 기초과학연구원 |
| 발명자 | 최원식, 강성삼, 윤석찬, 권용우 |
| 출원번호 | 1020230057834 |
| 출원일 | 2023.05.03 |
| 등록번호 | 20240160910 |
| 등록일 | 2024.11.12 |
| 중요 키워드 | mediummatrix dataaberration |
본 발명은 반사 행렬 데이터에 기반한 켤레 적응광학 알고리즘을 이용하여 타겟 이미지를 보정 및 복원하는 이미징 장치 및 방법에 관한 것으로, 본 발명의 일실시예에 따르면 이미징 장치는 타겟 오브젝트에 조명빔을 입사하는 광원부, 상기 타겟 오브젝트의 샘플 평면의 샘플 켤레면의 샘플 입력 위치로부터 상기 입사된 조명빔이 산란되고, 상기 산란된 조명빔을 상기 샘플 켤레면에 있는 샘플 감지 픽셀로 감지하는 감지부, 상기 샘플 입력 위치를 입력단으로 구성하고, 상기 샘플 감지 픽셀을 출력단으로 구성하는 반사 행렬 데이터를 획득하는 반사 행렬 획득부, 상기 획득된 반사 행렬 데이터에 입력단 변환 행렬 및 출력단 변환 행렬을 적용하여 상기 입력단과 상기 출력단의 수차를 주는 매질 평면의 매질 켤레면에 대해 변환 반사 행렬 데이터를 획득하고, 상기 획득된 변환 반사 행렬 데이터에서 수차 보정된 행렬 데이터와 수차맵의 입력단과 출력단을 분리하는 알고리즘 처리부 및 상기 수차 보정된 행렬 데이터를 역 푸리에 변환하여 상기 샘플 평면에서의 행렬 데이터를 복원하고, 상기 복원된 행렬 데이터에 기반하여 수차 보정된 이미지를 획득하는 이미지 처리부를 포함할 수 있다.
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