타겟분자를 선택적으로 포획하는 덱스트란 고분자 기반의 증폭된 핵산 압타머 나노구조체의 제조방법

[특허 요약] 본 발명은 타겟분자를 선택적으로 포획하는 덱스트란 고분자 기반의 증폭된 핵산 압타머 나노구조체의 제조방법에 관한 것으로서, 덱스트란 고분자에 나노구조체 형성을 위한 짧은 핵산 서열 혹은 상보적 서열과 특정 타겟분자 포획을 위한 핵산 압타머 서열을 연결하고 각각의 고분자 핵산 물질을 혼합하여 나노구조체를 형성시킨 후에 회전환 증폭 효소 반응을 통하여 반복되는 핵산 압타머를 형성하고, 덱스트란 고분자 기반의 증폭된 핵산 압타머 나노구조체는 특정한 타겟분자를 효율적이며 선택적으로 포획하는 효과가 있다.

특허 등록번호

2018084562A

특허 출원번호

2017012242

출원일

2017.11.01

등록일

2018.05.11

국가

세계_지적_재산권_기구

출원인

기초과학연구원, 서울대학교산학협력단, 서울대학교병원, 포항공과대학교 산학협력단

발명자

김원종, 김정훈, 이지현, 이병주

중요 키워드

nucleic acid, aptamer, dextran polymer, vegf, acid aptamer