[특허 요약] 이중층 박막 및 그 형성 방법이 제공된다. 상기 이중층 박막은, 제1 층 및 상기 제1 층 위에 배치되는 제2 층을 포함하고, 상기 제1 층 및 상기 제2 층은 서로 다른 인장 응력을 갖는다. 상기 이중층 박막의 형성 방법은, 희생 기판 위에 제1 층 및 제2 층을 포함하는 이중층 박막을 형성하는 단계 및 상기 희생 기판으로부터 상기 이중층 박막을 분리하는 단계를 포함하고, 상기 제1 층 및 상기 제2 층은 서로 다른 인장 응력을 갖는다.

등록번호

20250133083

출원번호

1020240030341

출원인

서울대학교산학협력단, 기초과학연구원

키워드

layer, thin film, double, stress, forming