차세대 반도체 소재 합성 기술 개발

- 이황화몰리브데늄 그래핀처럼 단일층화, 반도체 특성 지녀 응용 기대 -

□ 기초과학연구원(IBS, 원장 김두철) 나노구조물리연구단(단장 이영희, 성균관대 물리학과 교수) 연구팀이 이황화몰리브데늄1)을 원하는 위치에 단일층으로 합성하는 기술을 개발하는데 성공했다. 이에 따라 이황화몰리브데늄을 활용한 차세대 반도체 소재 응용연구가 활발해질 것으로 기대된다.

 o 이황화몰리브데늄은 원자 수준의 얇은 막으로 차세대 나노소재로 각광받고 있는 물질이다. 구조적으로 그래핀과 유사하나 자체적인 에너지 밴드갭2)이 있어 반도체 특성을 뚜렷하게 보인다는 특징이 있다. 이황화몰리브데늄은 이러한 반도체성으로 인해 향후 태양전지, 휘는 디스플레이, 투명 전자소자 등 다양한 광/전자소자 영역에 응용될 것으로 예상된다.

□ 연구진은 이황화몰리브데늄 합성 시 필요한 산화몰리브데늄3)을 특정 위치에 증착하는 한편 성장 촉진제4)를 이용하여 양질의 입자를 지닌 이황화몰리브데늄막을 원하는 위치에 합성하는 기술을 개발하는데 성공하였다.

 o 산화몰리브데늄 또는 순수한 몰리브데늄을 황화시켜 특정 기판위에 이황화몰리브데늄을 합성한 사례가 있지만 이러한 방법은 원하는 위치에 합성하기가 어렵거나, 단일층 합성이 어렵다는 공정상 제한이 있었다. 이에 연구진은 이황화몰리브데늄 합성 중 양립할 수 없었던 한계를 극복한 셈이다.

 o 이번 성과는 기존 물질 합성 방식의 한계를 뛰어넘었다는 점과 반도체 산업의 핵심 기술인 양질의 물질을 원하는 위치에 합성할 수 있는 방법론을 제시했다는데 큰 의의가 있다.

□ IBS 나노구조물리연구단과 미국 펜실베이니아대학교의 공동연구로 수행된 이번 연구결과는 과학기술분야의 권위지인 네이처 커뮤니케이션즈5)(Nature Communications, IF 10.742)에 1월 28일자로 온라인 게재되었다.

* (논문제목) 위치 결정 가능한 단일층 MoS2 의 합성
(Seeded Growth of Highly Crystalline Molybdenum Disulphide Monolayers at Controlled Locations)

* (1저자, 교신저자) 한강희 IBS 나노구조물리연구단 연구원

* (공동저자) 이시영 연구원, 이영희 IBS 나노구조물리연구단장(성균관대학교 에너지과학과, 물리학과 교수)

* (공동연구기관) (美)Charlie Johnson group, University of Pennsylvania (Penn)

□ 이영희 IBS 나노구조물리연구단장은 “이번 연구는 양질의 층상구조 물질을 원하는 위치에 직접적으로 합성할 수 있는 기술을 처음으로 개발한 연구”라며 “초기단계의 칼코겐화 물질6) 연구에 있어 확장이 가능한 중요한 사례”라고 전했다.